C1100 是韧铜(含氧铜),C1020 是无氧铜,核心差异在氧含量,由此带来氢脆敏感性、导电导热、焊接 / 真空 / 高温可靠性、成本的明显区别。
一、核心成分(JIS 标准)
| 牌号 | 类型 | Cu+Ag ≥ | 氧含量 O | 杂质总量 ≤ | 对应 ASTM |
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| C1100 | 韧铜(含氧) | 99.90% | 0.02%–0.05%(200–500 ppm) | 0.10% | C11000 |
| C1020 | 无氧铜 | 99.96% | ≤0.003%(≤30 ppm) | 0.03% | C10200 |
二、关键性能对比
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无氢脆风险
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真空 / 氢气焊接、钎焊、电子束焊更可靠
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三、典型应用场景
C1100(优先选)
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一般电气:电缆、母线、汇流排、电机 / 变压器绕组 -
散热:散热器、热交换器、模具导热镶件 -
结构:水管、五金、普通铜件、非真空焊接件 -
优势:性价比高、加工稳定 -
C1020(必须选)
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真空 / 氢气环境:真空器件、电子管、半导体引线、氢炉钎焊 -
高可靠电子:高频导体、微波器件、精密接插件、超导引线 -
极端温度:高温退火、深冷、无氢脆风险的精密结构 -
优势:无氢脆、导电导热更稳、真空 / 高温可靠性极高 
